第Ⅱ卷(非選擇題 共58分)

　　注意事項(xiàng)：

　　使用題8.(1分)已知元素X、Y、Z、W、R為前四周期元素，且原子序數(shù)依次增大。X基態(tài)原子核外有三個(gè)未成對(duì)電子，Z、W分別是中電負(fù)性最大和最小的元素;R子3d軌道中有三對(duì)成對(duì)電子。請(qǐng)回答下列問(wèn)題(1)R電子排布式為 元素X、Y、Z的第一電離能由大到小的順序 。

　　(2)化合物XZ3的空間構(gòu)型為 ， 。

　　(3)Z的氫化物由固體變?yōu)闅鈶B(tài)所需克服的微粒間的作用力是 。

　　()Z、W、R形成某種化合物的晶胞結(jié)構(gòu)如右圖所示，其化學(xué)式為 ()XY能被酸性KMnO4溶液氧化其中MnO被還原為Mn2+，反應(yīng)的離子方程式是 。

　　9.(1分)溴苯是一種化工原料，某興趣小組用如下裝置制備溴苯并證明苯和液溴發(fā)生的是取代反應(yīng)，而不是加成反應(yīng)。關(guān)數(shù)據(jù)如下：

　　苯 溴 溴苯 密度/g·cm-3 0.88 3.10 1.50 沸點(diǎn)/℃ 80 59 156 水中溶解度 微溶 微溶 微溶

　　回答下列問(wèn)題：

　　(1)儀器c的名稱(chēng)為 。

　　(2)將b中液溴緩慢滴入a無(wú)水苯及鐵的混合體系中，充分反應(yīng)即可得到溴苯，通過(guò)下列步驟分離提純：

　�、傧騛中加入10 mL水，然后 除去未反應(yīng)的鐵屑;

　�、诋a(chǎn)品依次用10 mL水、8 mL10%的NaOH溶液、10 mL水洗滌。過(guò)程需要分液操作，分液時(shí)溴苯應(yīng)從 (填儀器名稱(chēng))的 (填“上口”、“下口”)分離出。

　　③向分出的粗溴苯中加入少量的無(wú)水氯化鈣，靜置、過(guò)濾。

　　(3)經(jīng)過(guò)上述分離操作后，粗溴苯中還含有的主要雜質(zhì)為 ，要進(jìn)一步提純，必須進(jìn)行的操作是 (4)裝置中所裝的試劑為 ，作用是 。

　　(5)能證明苯和液溴發(fā)生的是取代 10.(1分)用于化妝品紫外線吸收，局部麻醉藥

　　請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

　　(1)的名稱(chēng)是_____________。

　　是________。

　　(4)寫(xiě)出方程式： 。

　　()苯佐卡因有多種同分異構(gòu)體，其中直接連在苯環(huán)上苯環(huán)上的一氯取代物只有種同分異構(gòu)體廢舊印刷電路板可減少污染實(shí)現(xiàn)資源再生。(1)廢舊印刷電路板經(jīng)粉碎分離能得到金屬粉末控制其他條件相同，用10%H2O2和3.0 mol·L-1 H2SO4的混合溶液處理印刷電路板的金屬粉末，測(cè)得不同溫度下銅的平均溶解速率在H2SO4溶液中Cu與H2O2反應(yīng)生成Cu2+和H2O的方程式為 。當(dāng)溫度高于40℃時(shí)，銅的平均溶解速率隨著反應(yīng)溫度升高而下降，其主要原因是()4來(lái)制備CuCl。在提純后的CuSO4溶液中加入一定量的Na2SO3和NaCl，加熱，生成CuCl沉淀的離子方程式是　。()Cu(CO)Cl·H2O (H<0

　　要加大CO的吸收率，適宜的條件是 。

　　(4)工業(yè)制備CuCl需要配制質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20.0%的CuSO4溶液(密度為1.2 g·cm-3)，配制該溶液所需CuSO4·5H2O與H2O的質(zhì)量之比為 ，所得溶液的物質(zhì)的量濃度為 。

　　(5)工業(yè)檢測(cè)CuCl產(chǎn)品的純度需要80 mL 0.5 mol/L的FeCl3溶液，配制該溶液所需儀器除托盤(pán)天平(含砝碼、質(zhì)量相同的兩紙片)、燒杯外，還必需 。