二、 工程地質(zhì)測(cè)繪與調(diào)查

　　1、 巖土工程詳細(xì)勘察階段工程地質(zhì)測(cè)繪的比例尺應(yīng)為：

　　(A) 1：200~1：2000;

　　(B)1：5000~1：10000;

　　(C)1：2000~1：5000;

　　(D)1：10000~1：50000;

　　答案：A

　　2、 工程地質(zhì)測(cè)繪的精度為：

　　(A)圖上誤差不超過1毫米，其它地段不超過3毫米;

　　(B)一律不超過3毫米;

　　(C)各種地質(zhì)現(xiàn)象、地物的實(shí)地誤差不超過4米;

　　(D)圖上誤差不超過3毫米， 其它地段不超過5毫米;

　　答案：D

　　3、 巖土工程地質(zhì)測(cè)繪的實(shí)施方法有：

　　(A)路線穿越法;

　　(B)追索法;

　　(C)布點(diǎn)法;

　　(D)A+B+C

　　答案：D

　　4、 巖土工程測(cè)繪中，地質(zhì)點(diǎn)的定位方法有：

　　(A)目測(cè)法;

　　(B)半儀器法;

　　(C)儀器法;

　　(D)A+B+C

　　答案：D

　　5、 巖土工程測(cè)繪中，對(duì)地質(zhì)構(gòu)造線、地層界線、地下水露頭、軟弱夾層等地質(zhì)現(xiàn)象應(yīng)采用( )進(jìn)行定位?

　　(A)半儀器法;

　　(B)儀器法;

　　(C)目測(cè)法;

　　(D)B+C;

　　答案：B

　　6、 巖土工程詳細(xì)勘察階段地質(zhì)平面圖的最終圖件應(yīng)：

　　(A) 利用半儀器法在現(xiàn)場(chǎng)標(biāo)注后回到室內(nèi)清繪;

　　(B)直接在現(xiàn)場(chǎng)一次成圖;

　　(C)在現(xiàn)場(chǎng)測(cè)繪、標(biāo)注在同等比例尺的地形圖上，回到室內(nèi)再按實(shí)測(cè)坐標(biāo)標(biāo)注、再清繪成圖;

　　(D)利用航片或衛(wèi)片在室內(nèi)直接成圖;

　　答案：C

　　7、 巖土工程成果內(nèi)業(yè)整理中的裂隙玫瑰花圖的繪制方法為：

　　(A) 在I、IV象限構(gòu)成的半圓內(nèi)，按一定的走向間隔，以圓心為起點(diǎn)、以半徑長(zhǎng)短為裂隙條數(shù)、以走向?yàn)榉较虍嫵鋈舾蓚�(gè)點(diǎn)，將各個(gè)點(diǎn)連接起來，最后封閉于圓心所形成;

　　(B)在II、III象限構(gòu)成的半圓內(nèi)，按一定走向間隔，以圓心為起點(diǎn)、以半徑長(zhǎng)短為裂隙條數(shù)、以走向?yàn)榉较虍嫵鋈舾蓚�(gè)點(diǎn)，將各個(gè)點(diǎn)連接起來，最后封閉于圓心所形成;

　　(C)在I、II、III、IV象限構(gòu)成的圓內(nèi)，按一定的走向間隔，以圓心為起點(diǎn)、以半徑長(zhǎng)短為裂隙條數(shù)、以走向?yàn)榉较虍嫵鋈舾蓚�(gè)點(diǎn)，將各個(gè)點(diǎn)連接起來，最后封閉于圓心所形成;

　　(D)將所有裂隙標(biāo)注于平面圖上，形成玫瑰花的花瓣形式;

　　答案：A

　　8、 為保證工程地質(zhì)測(cè)繪精度，底圖的比例尺應(yīng)( )正式圖的比例尺?

　　(A)小于;

　　(B)等于;

　　(C)必須大于;

　　(D)小于或等于均可;

　　答案：B

　　9、 基坑勘察范圍應(yīng)為：

　　(A) 基坑范圍以內(nèi);

　　(B)基坑范圍以外及開挖深度的1~2倍范圍內(nèi);

　　(C)基坑及放坡范圍內(nèi);

　　(D)基坑基底以下5~10米;

　　答案：B

　　10、 錨桿或錨索加固邊坡適用于潛在滑動(dòng)面大于( )的不穩(wěn)定巖土體?

　　(A)5m;

　　(B)20m;

　　(C)30m;

　　(D)10m;

　　答案：D